1.

国際会議録
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1. Optimizing a DUV positive resist for metal layers
Malik, S. ; Maxwell, B. ; Gandolfi, A. ; Ornaghi, A. ; Whewell, A. ; Uhnak, K. ; Volpi, S. ; Driessche, V. Van ; Sarubbi, T. R. ; Hansen, S. G. ; Bowden, M. J.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.527-535,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
2.

国際会議録
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2. Lithographic properties of novel acetal-derivatized hydroxy styrene polymers
Malik, S. ; Blakeney, A. J. ; Ferreira, L. ; Maxwell, B. ; Whewell, A. ; Sarubbi, T. R. ; Bowden, M. J. ; Driessche, V. Van ; Fujimori, T. ; Tan, S. ; Aoai, T. ; Uenishi, K. ; Kawabe, Y. ; Kokubo, T.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.388-401,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
3.

国際会議録
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3. Resist outgassing as a function of differing photoadditives
Houlihan, F. M. ; Rushkin, I. L. ; Hutton, R. S. ; Timko, A. G. ; Nalamasu, O. ; Reichmanis, E. ; Gabor, A. H. ; Medina, A. N. ; Malik, S. ; Neiser, M. ; Kunz, R. R. ; Downs, D. K.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.264-274,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
4.

国際会議録
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4. 1.3 ｦﾌm InAs/GaAs quantum dot LED
Childs, D. ; Malik, S. ; Siverns, P. ; Roberts, C. ; Murray, R.
出版情報: Semiconductor quantum dots : symposium held April 5-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.267-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 571
5.

国際会議録
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5. Controlling growth of InAs/GaAs self-assembled quantum dots to give 1.3ｦﾌm room temperature emission
Malik, S. ; Siverns, P. ; Childs, D. ; Roberts, C. ; Hartmann, J-M. ; Murray, R.
出版情報: Semiconductor quantum dots : symposium held April 5-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.273-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 571
6.

国際会議録
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6. Novel materials for 157-nm bilayer resist designs
Dilocker, S.J. ; Malik, S. ; De, B.B.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.627-632,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039
7.

国際会議録
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7. A HFIPS-based polymer approach for 157-nm single layer photoresist
Kanna, S. ; Mizutani, K. ; Yasunami, S. ; Kawabe, Y. ; Tan, S. ; Yagihara, M. ; Kokubo, T. ; Malik, S. ; Dilocker, S.J.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.612-621,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039