1.

国際会議録
国際会議録
1. Optimal Size Distribution of CMP Slurries for Enhanced Polishing with Minimal Defects
Basim, G.B. ; Adler, J.J. ; Mahajan, U. ; Singh, R.K. ; Moudgil, B.M.
出版情報: Chemical mechanical planariarization in IC device manufacturing III : proceedings of the international symposium.  pp.369-381,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-37
2.

国際会議録
国際会議録
2. Developing Engineered Particulate Systems for Oxide Chemical Mechanical Polishing
Basim, G.B. ; Adler, J.J. ; Mahajan, U. ; Singh, R.K. ; Moudgil, B.M.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.45-55,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-26
3.

国際会議録
国際会議録
3. Pulsed Laser-Assisted Particulate Cleaning of Solid Surfaces
Kumar, D. ; Ivory, S. ; Mahajan, U. ; Singh, Rajiv K.
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.475-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477
4.

国際会議録
国際会議録
4. Tribological Experiments Applied to Tungsten Chemical- Mechanical Polishing
Agarwal, P. ; Bielmann, M. ; Lolt, D. ; Mahajan, U. ; Mischler, S. ; Rosset, E. ; Singh, R. K.
出版情報: Chemical mechanical polishing -- fundamentals and challenges : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.97-102,  2000.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 566