1.

国際会議録
国際会議録
1. Prevention of Corner Voiding in Selective CVD Deposition of Titanium Silicide on SOI Device
Maa, J-S. ; Ulrich, B. ; Stecker, L. ; Stecker, G. ; Hsu, S. T.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.29-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
2.

国際会議録
国際会議録
2. Effects on Selective CVD of Titanium Disilicide by Substrate Doping and Selective Silicon Deposition
Maa, J-S. ; Howard, D. J.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.85-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564