1.

国際会議録
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1. Statistical approach utilizing neural networks for CD error prediction
M. Asano ; M. Satake ; S. Tanaka ; S. Mimotogi
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
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2. Evaluation of lithography simulation model accuracy for hotspot-based mask quality assurance
M. Satake ; M. Kariya ; S. Tanaka ; K. Hashimoto ; S. Inoue
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
3.

国際会議録
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3. Patterning performance of hyper NA immersion lithography for 32nm node logic process
K. Takahata ; M. Kajiwara ; Y. Kitamura ; T. Ojima ; M. Satake
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.714017-1-714017-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
4.

国際会議録
国際会議録
4. Patterning strategy and performance of 1.3NA tool for 32nm node lithography
S. Mimotogi ; M. Satake ; Y. Kitamura ; K. Takahata ; K. Kodera
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.69240M-1-69240M-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
5.

国際会議録
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5. Hotspot management in which mask fabrication errors are considered
M. Kariya ; E. Yamanaka ; K. Yoshida ; K. Konomi ; M. Satake
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70282U-1-70282U-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
6.

国際会議録
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6. Scanner fleet management utilizing programmed hotspot patterns
K. Yoshida ; S. Inoue ; K. Hashimoto ; S. Tanaka ; M. Satake
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.70280W-1-70280W-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
7.

国際会議録
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7. Impact of patterning strategy on mask fabrication beyond 32nm
S. Mimotogi ; T. Higaki ; H. Kanai ; S. Tanaka ; M. Satake
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.702814-1-702814-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028