1.

国際会議録
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1. Hot Explosive Compaction of Zinc Sulfide Based Electroluminescent by Double Cylinder Implosion Technique
G. Kennedy ; S. Tanaka ; Y. Hayashi ; M. Kurihara ; K. Hokamoto
出版情報: Explosion, shock wave and high energy reaction phenomena : selected, peer reviewed papers from International Symposium on Explosion, Shock wave & High-energy reaction Phenomena 2010 (3rd ESHP Symposium), 1-3 September 2010, Seoul National University, Seoul, Korea.  pp.285-290,  2011.  Aedermannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 673
2.

国際会議録
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2. Processing of Zinc Sulfide Based Electroluminescent Material Using TNT in a High Pressure Vessel
G. Kennedy ; N. Wada ; Y. Hayashi ; M. Kurihara ; K. Hokamoto
出版情報: Explosion, shock wave and high energy reaction phenomena : selected, peer reviewed papers from International Symposium on Explosion, Shock wave & High-energy reaction Phenomena 2010 (3rd ESHP Symposium), 1-3 September 2010, Seoul National University, Seoul, Korea.  pp.143-148,  2011.  Aedermannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 673
3.

国際会議録
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3. Discharge/Charge Cycling Behaviors of Cr03-Graphite Intercalation Compound Cathode in a DMSO Solution
M. Kurihara ; T. Miura ; T. Kishi
出版情報: Proceedings of the Symposium on New Sealed Rechargeable Batteries and Supercapacitors.  pp.259-269,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-23
4.

国際会議録
国際会議録
4. Application of chemically amplified resists to photomask fabrication
M. Arai ; H. Inomata ; T. Nishimura ; M. Kurihara ; N. Hayashi
出版情報: Photomask and X-ray mask technology II : 20-21 April 1995, Kawasaki City, Kanagawa, Japan.  pp.74-87,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2512
5.

国際会議録
国際会議録
5. EBR900 processes in e-beam and laser beam lithographies for photomask fabrication
M. Kurihara ; M. Komada ; H. Moro-oka ; N. Hayashi ; H. Sano
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing V : 20-21 February 1995, Santa Clara, California.  pp.240-252,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2437
6.

国際会議録
国際会議録
6. Methodology of adhesive energy for photomask fabrication using scanning probe microscopy
S. Shimada ; T. Shimomura ; K. Yoshida ; M. Kurihara ; H. Mohri ; N. Hayashi
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
7.

国際会議録
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7. Progress of NIL template making
S. Yusa ; T. Hiraka ; A. Kobiki ; S. Sasaki ; K. Itoh ; N. Toyama ; M. Kurihara ; H. Mohri ; N. Hayashi
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
8.

国際会議録
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8. Surface energy control techniques for photomask fabrication and their characterizations with scanning probe microscopy
M. Kurihara ; S. Hatakeyama ; K. Yoshida ; M. Abe ; D. Totsukawa
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70282T-1-70282T-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
9.

国際会議録
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9. Optimization of measuring conditions for templates of UV nano imprint lithography
K. Yoshida ; K. Kojima ; M. Abe ; S. Sasaki ; M. Kurihara
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70281V-1-70281V-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
10.

国際会議録
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10. Development status of back-end process for UV-NIL template fabrication
Y. Inazuki ; K. Itoh ; S. Hatakeyama ; K. Kojima ; M. Kurihara
出版情報: Photomask technology 2008.  2  pp.71223Q-1-71223Q-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122