1.

国際会議録
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1. Masks for flash memory gates for the 45nm node: binary or attenuated?
E. van Setten ; A. Engelen ; J. Finders ; M. Dusa
出版情報: 23rd European Mask and Lithography Conference.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
2.

国際会議録
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2. Evaluating a scatterometry-based focus monitor technique for hyper-NA lithography
C. S. Saravanan ; S. Nirmalgandhi ; O. Kritsun ; A. Acheta ; R. Sandberg ; B. L. Fontaine ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
国際会議録
3. Metrology challenges of double exposure and double patterning
W. H. Arnold ; M. Dusa ; J. Flinders
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
4.

国際会議録
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4. Evaluating the performance of a 193-nm hyper-NA immersion scanner using scatterometry
O. Kritsun ; B. L. Fontaine ; R. Sandberg ; A. Acheta ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici ; C. Saravanan ; K. Primak ; R. Korlahalli ; S. Nirmalgandhi
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
国際会議録
5. Pitch doubling through dual-patterning lithography challenges in integration and litho budgets
M. Dusa ; J. Quaedackers ; O. F. A. Larsen ; J. Meessen ; E. van der Heijden ; G. Dicker ; O. Wismans ; P. de Haas ; K. van I. Schenau ; J. Finders ; B. Vleeming ; G. Storms ; P. Jaenen ; S. Cheng ; M. Maenhoudt
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
6.

国際会議録
国際会議録
6. Lithography and yield sensitivity analysis of SRAM scaling for the 32nm node
A. Nackaerts ; S. Verhaegen ; M. Dusa ; H. Kattouw ; F. van Bilsen ; S. Biesemans ; G. Vandenberghe
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521
7.

国際会議録
国際会議録
7. Mask characterization for double patterning lithography
K. Bubke ; E. Cotte ; J. H. Peters ; R. de Kruif ; M. Dusa
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301H-1-67301H-10,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730
8.

国際会議録
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8. The flash memory battle: How low can we go?
E. van Setten ; O. Wismans ; K. Grim ; J. Finders ; M. Dusa
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244I-1-69244I-14,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
9.

国際会議録
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9. Litho variations and their impact on the electrical yield of a 32nm node 6T SRAM cell
S. Verhaegen ; S. Cosemans ; M. Dusa ; P. Marchal ; A. Nackaerts
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration II.  pp.69250R-1-69250R-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6925
10.

国際会議録
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10. Double patterning for 32nm and below: an update
J. Finders ; M. Dusa ; B. Vleeming ; H. Megens ; B. Hepp
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.692408-1-692408-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924