1.

国際会議録
国際会議録
1. Integrating immersion lithography in 45-nm logic manufacturing
M. Benndorf ; S. Warrick ; W. Conley ; D. Cruau ; D. DeSimone ; K. Mestadi ; V. Farys ; J. Gemmink
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
国際会議録
2. Extending immersion lithography to the 32-nm node
S. Warrick ; W. Conley ; V. Farys ; M. Benndorf ; J. Gemmink ; Y. Trouiller ; J. Belledent ; D. Jovanovic ; P. Gouraud
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
3.

国際会議録
国際会議録
3. Investigation on immersion defectivity root cause
V. Farys ; S. Gaugiran ; D. Cruau ; K. Mestadi ; S. Warrick ; M. Benndorf ; R. Feilleux ; C. Sourd
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533