1.

国際会議録
国際会議録
1. EVALUATION OF MEGASONIC CLEANING SYSTEMS FOR PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY AND DAMAGING
Vereecke, G. ; Holsteyns, F. ; Veltens, J. ; Lux, M. ; Amauts, S. ; Kenis, K. ; Vos, R. ; Mertens, P. ; Heyns, M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.145-152,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. EVALUATION OF OZONATED WATER SPRAY FOR RESIST CLEANING APPLICATIONS
De Gendt, S. ; Lux, M. ; Claes, M. ; Van Hoeymissen, J. ; Conrad, T. ; Worth, W. ; Lagrange, S. ; Bergman, E. ; Jassal, A.S. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.391-398,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
3.

国際会議録
国際会議録
3. OPTIMIZATION OF A BRUSH SCRUBBER FOR NANO-SIZED PARTICLES
Xu, K. ; Vos, R. ; Arnauts, S. ; Lux, M. ; Schaetzlein, W. ; Speh, U. ; Mertens, P. ; Heyns, M. ; Vinckier, C.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.187-194,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
4.

国際会議録
国際会議録
4. Content-based video retrieval and summarization using MPEG-7
Bailer, W. ; Mayer, H. ; Neuschmied, H. ; Haas, W. ; Lux, M. ; Klieber, W.
出版情報: Internet imaging V : 19-20 January 2004, San Jose, California, USA.  pp.1-12,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5304
5.

国際会議録
国際会議録
5. DEVELOPMENT OF ADVANCED CORROSION FREE ORGANIC STRIPPERS FOR ULSI PROCESSING
Rotondaro, A.L.P. ; Honda, K. ; Maw, T. ; Perry, D. ; Lux, M. ; Heyns, M.M. ; Claeys, C. ; Darakchiev, I.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.537-543,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20