1.

国際会議録
国際会議録
1. High-performance finite field multiplier for cryptographic applications
Lutz, J. ; Hasan, M.A.
出版情報: Advanced signal processing algorithms, architectures, and implementations XIII : 6-8 August, 2003, San Diego, California, USA.  pp.541-551,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5205
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterization of Polysilicon Gate Etch with Ultra Thin Gate Oxide (<35 A゜) in a Decoupled Plasma Source Etcher
Lii, T. ; Park, E. ; Lutz, J. ; Wu, W. ; Simpson, L. ; Mui, D.
出版情報: Proceedings of the International Symposium on Thin Film Materials, Processes, Reliability, and Applications, Thin Film Processes.  pp.79-84,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-30
3.

国際会議録
国際会議録
3. Irradiation-induced Deep Levels in Silicon（Invited Paper）
Siemieniec, R. ; Niedermostheide, F.-J. ; Schulze, H.-J. ; Sudkamp, W. ; Kellner-Werdehausen, U. ; Lutz, J.
出版情報: High purity silicon VIII : proceedings of the international symposium.  pp.369-384,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-05