1.

国際会議録
国際会議録
1. Defect printability study with programmed defects on halftone reticles
Dettmann,W. ; Haffner,H. ; Heumann,J.P. ; Liebe,R. ; Ludwig,R. ; Moses,R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.479-487,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
2.

国際会議録
国際会議録
2. Chrome dry etch process characterization using surface nanoprofiling
Ruhl,G.G. ; Dietrich,R. ; Ludwig,R. ; Falk,N. ; Morrison,T.B. ; Stoehr,B.C.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.97-107,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
3.

国際会議録
国際会議録
3. Influence of e-beam-induced contamination on the printability of resist structures at 157-nm exposure
Schilz,C.M. ; Eisner,K. ; Hien,S. ; Schleussner,T. ; Ludwig,R. ; Semmler,A.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.297-306,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562