1.

国際会議録
国際会議録
1. Ellipsometric scatterometry for sub-0.1-ｦﾌm CD measurements
Coulombe,S.A. ; Logofatu,P.C. ; Minhas,B.K. ; Naqvi,S.S.H. ; McNeil,J.R.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XII : 23-25 February 1998, San Clara, California.  pp.282-293,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3332
2.

国際会議録
国際会議録
2. Scatterometry: a metrology for subwavelength surface-relief gratings
Logofatu,P.C. ; McNeil,J.R.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XV.  pp.472-483,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4344
3.

国際会議録
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3. Measurement precision of optical scatterometry
Logofatu,P.C. ; McNeil,J.R.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XV.  pp.447-453,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4344