1.

国際会議録
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1. Comparisons of critical parameters for high- and low-activation-energy deep-UV photoresists
Conley,W. ; Babcock,C.P. ; Farrar,N.R. ; Liu,H.-Y. ; Peterson,B. ; Taira,K.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.357-365,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
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2. Application of alternating phase-shifting masks to 140-nm gate patterning: II. Mask design and manufacturing tolerances
Liu,H.-Y. ; Karklin,L. ; Wang,Y.-T. ; Pati,Y.C.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.2-14,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
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3. Application of chromeless phase-shift masks to sub-100-nm SOI CMOS transistor fabrication
Fritze,M. ; Burns,J.M. ; Wyatt,P.W. ; Astolfi,D.K. ; Forte,T. ; Yost,D. ; Davis,P. ; Curtis,A.V. ; Preble,D.M. ; Cann,S.G. ; Denault,S. ; Liu,H.-Y. ; Shaw,J.C. ; Sullivan,N.T. ; Mastovich,M.E.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.388-407,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
4.

国際会議録
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4. Advanced lithography kits: serifs and hammerhead
Liu,H.-Y. ; Schulze,S. ; Thomas,A.C. ; McGuire,A.E. ; Cross,M.
出版情報: Challenges in process integration and device technology : 18-19 September 2000, Santa Clara, USA.  pp.87-98,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4181
5.

国際会議録
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5. Integrated phase-shifting software solution for IC design to manufacturing
Liu,H.-Y. ; Wu,C. ; Li,X.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1379-1382,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
6.

国際会議録
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6. Patterning 80-nm gates using 248-nm lithography: an approach for 0.13-μm VLSI manufacturing
Wang,C.-M. ; Lai,C.-W. ; Huang,J. ; Liu,H.-Y.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.452-463,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
7.

国際会議録
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7. Alternating phase shifting mask implementation to 0.1-μm logic gates
Chang,C.-H. ; Tzu,S.-D. ; Hsieh,C.-H. ; Dai,C.M. ; Lin,B.J. ; Lin,C.-H. ; Liu,H.-Y.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.368-378,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
8.

国際会議録
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8. Application of alternating phase-shifting masks to 140-nm gate patterning: Iinewidth control improvements and design optimization
Liu,H.-Y. ; Karklin,L. ; Wang,Y.-T. ; Pati,Y.C.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.328-337,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236
9.

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9. Impact of photomasks on linewidth variation
Gleason,R.E. ; Liu,H.-Y.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.266-274,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236
10.

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10. Lithography process calibration with applications in defect printability analysis
Wu,S.-P. ; Liu,H.-Y. ; Chang,F.-C. ; Karklin,L.
出版情報: 18th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.485-491,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3546