1.

国際会議録
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1. Precision control of poly-gate CD by local OPC for elimination of microloading effect on 0.13-μm CMOS technology
Lee, T.-K. ; Wang, Y.-C. ; Chi, M. ; Lu, C.Y. ; Hsieh, C.H. ; Liu, R.G. ; Liao, H.J. ; Yang, S.S. ; Chang, C.-H.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing II : 26-28 February 2003, Santa Clara, California, USA.  pp.346-352,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5042
2.

国際会議録
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2. Mask cost and cycle time reduction (Invited Paper)
Hsieh, H.-C. ; Hung, J.C. ; Chin, A.S.J. ; Lee, S.C. ; Shin, J.J. ; Liu, R.G. ; Lin, B.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.4-15,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
3.

国際会議録
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3. Precision control of poly-gate CD by local OPC for elimination of microloading effect on 0.13-μm CMOS technology
Lee, T.-K. ; Wang, Y.-C. ; Chi, M.-H. ; Lu, C.Y. ; Hsieh, C.H. ; Liu, R.G. ; Liao, H.J. ; Yang, S.S. ; Chang, C.-H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.450-456,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Pecision control of poly-gate CD by local OPC for elimination of microloading effect on 0.13-Цm CMOS technology
Lee, T.-K. ; Wang, Y.-C. ; Chi, M.-H. ; Lu, C.Y. ; Hsieh, C.H. ; Liu, R.G. ; Liao, H.J. ; Yang, S.S. ; Chang, C.-H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.450-456,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040