1.

国際会議録
国際会議録
1. High-k scaling for gate insulators: an insightful study
Krishnan,S. ; Yeap,G.C.-F. ; Yu,B. ; Xiang,Q. ; Lin,M.-R.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.65-72,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
2.

国際会議録
国際会議録
2. Sub-100-nm and deep sub-100-nm MOS transistor gate patterning
Xiang,Q. ; Gupta,S. ; Spence,C.A. ; Singh,B. ; Yeap,G.C.-F. ; Lin,M.-R.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.243-252,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
3.

国際会議録
国際会議録
3. Hot-carrier effects in sub-100-nm gate-length N-MOSFETs with thermal and nitrided oxide thickness down to 1.3 nm
Yeap,G.C.-F. ; Song,M. ; Xiang,Q. ; Han,K.M. ; Lin,M.-R.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.265-270,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
4.

国際会議録
国際会議録
4. Effects of indium implant and post-RTA on performance and reliability of sub-100-nm retrograde channel NMOSFETs
Xiang,Q. ; Yu,B. ; Yeap,G.C.-F. ; Lin,M.-R.
出版情報: Microelectronic Device Technology III.  pp.186-194,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3881