1.

国際会議録
国際会議録
1. 0.13-ｦﾌm optical lithography for random logic devices using 248-nm attenuated phase-shifting masks
Chen,Y.T. ; Lin,C.H. ; Lin,H.T. ; Hsieh,H.C. ; Yu,S.S. ; Yen,A.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.99-110,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
国際会議録
2. Combination of OPC and AttPSM for patterning sub-0.18-ｦﾌm logic devices
Kuo,H.J. ; Lin,C.H. ; Tzu,S.D. ; Yen,A.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.435-445,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
国際会議録
3. Contacts to GaAs,InP,and GaP for high-temperature and high-power applications
Lee,P.P. ; Hwu,R.J. ; Sadwick,L.P. ; Kumar,B.R. ; Chern,J.-H. ; Lin,C.H. ; Balasubramaniam,H.
出版情報: Terahertz and gigahertz photonics : 19-23 July 1999, Denver, Colorado.  pp.217-222,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3795
4.

国際会議録
国際会議録
4. Long-wavelength infrared InAs/InGaSb type-？ superlattice photovoltaic detectors
Anselm,K.A. ; Ren,H. ; Vilela,M. ; Zheng,J. ; Lin,C.H. ; Nathan,V. ; Brown,G.J.
出版情報: Photodetectors : materials and devices VI : 22-24 January 2001, San Jose, USA.  pp.183-190,  2001.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4288
5.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
5. A Trade Study on Sabatier CO2 Reduction Subsystem for Advanced Missions
Jeng,F.F. ; Lin,C.H.
出版情報: 31st International Conference on Environmental Systems : SAE technical paper.  pp.1-14,  2001.  Warrendale, Penn..  Society of Automotive Engineers
シリーズ名: Society of Automotive Engineers technical paper series
シリーズ巻号: 2001
6.

国際会議録
国際会議録
6. Multibeam high-resolution UV wavelength reticle inspection
Hung,C.C. ; Yoo,C.S. ; Lin,C.H. ; Volk,W.W. ; Wiley,J.N. ; Khanna,S. ; Biellak,S. ; Wang,D.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.520-531,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409