1.

国際会議録
国際会議録
1. Mask-making study for the 65-nm node
Chen, C.-J. ; Lee, H.-C. ; Lu, C.-L. ; Hsieh, R.-G. ; Chen, W.-C. ; Hsieh, H.-C. ; Lin, B.-J.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.673-683,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
2.

国際会議録
国際会議録
2. Phenomena and OPC solution of ripple patterns for 65-nm node
Lai, C.-M. ; Ho, J.-S. ; Lai, C.-W. ; Tsai, C.-K. ; Tsay, C.-S. ; Chen, J.-H. ; Liu, R.-G. ; Ku, Y.C. ; Lin, B.-J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1165-1171,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
3.

国際会議録
国際会議録
3. Study of line edge roughness using continuous wavelet transform for 65-nm node
Shiu, L.-H. ; Chen, C.-K. ; Gau, T.-S. ; Lin, B.-J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1983-1991,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
4.

国際会議録
国際会議録
4. General scaling law of optical lithography optical theory
Chen, C.-K. ; Gau, T.-S. ; Chen, L.-J. ; Lee, C.-C. ; Shin, J.-J. ; Yen, A. ; Lin, B.-J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1487-1498,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
5.

国際会議録
国際会議録
5. Two threshold resist models for optical proximity correction
Huang, W.-C. ; Lin, C.-H. ; Kuo, C.-C. ; Huang, C.C. ; Lin, J.F. ; Chen, J.-H. ; Liu, R.-G. ; Ku, Y.C. ; Lin, B.-J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1536-1543,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377