1.

国際会議録
国際会議録
1. Process margin enhancement for 0.25-ｦﾌm metal etch process
Lee,C.Y. ; Ma,W.W. ; Lim,E.H. ; Cheng,A. ; Joy,R. ; Ross,M.F. ; Wong,S.S. ; Marlowe,T.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.865-880,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
2.

国際会議録
国際会議録
2. Degradation of PMOS series resistance due to Si implantation for Ti-salicide process
Lim,E.H. ; Siah,S.-Y. ; Lim,C.W. ; Lee,Y.M. ; Zheng,J.Z. ; Sundaresan,R. ; Pey,K.L.
出版情報: Microelectronic Device Technology III.  pp.152-158,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3881
3.

国際会議録
国際会議録
3. Impact of active dimension on junction leakages of a Ti-salicide process integrated with shallow-trench isolation
Siah,S.-Y. ; Lim,E.H. ; Shiu,M.-J. ; Lee,K.H. ; Zheng,J.Z.
出版情報: Microelectronic Device Technology III.  pp.293-301,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3881