1.

国際会議録
国際会議録
1. Titanium Self-Aligned Silicide Process Fabrication Issues for Deep Sub-Micron CMOS Devices
Lahiri,S.K. ; Lim,C.W. ; Chan,L.
出版情報: Physics of - Semiconductor Devices -.  Part 2  pp.957-966,  1998.  New Delhi.  Narosa Publishing House
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3316
2.

国際会議録
国際会議録
2. Extraction of texture regions using region-based local correlation
Seo,S.Y. ; Lim,C.W. ; Chun,Y.D. ; Kim,N.C.
出版情報: Visual communications and image processing 2001 : 24-26 January, 2001, San Jose, USA.  pp.694-701,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4310
3.

国際会議録
国際会議録
3. Transmission electron microscopy of defects in NMOS and PMOS structures
Bourdillon,A.J. ; Koh,Y.G. ; Chiang,S.L. ; Lim,C.W. ; Kong,J.R. ; Guobing,C.
出版情報: Microlithographic Techniques in IC Fabrication.  pp.236-242,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3183
4.

国際会議録
国際会議録
4. Degradation of PMOS series resistance due to Si implantation for Ti-salicide process
Lim,E.H. ; Siah,S.-Y. ; Lim,C.W. ; Lee,Y.M. ; Zheng,J.Z. ; Sundaresan,R. ; Pey,K.L.
出版情報: Microelectronic Device Technology III.  pp.152-158,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3881