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検索結果:
2
件
1.
国際会議録
国際会議録
1.
Scaling self-aligned contacts for 0.25ヲフ m and below
Perera,A. ; Pfiester,J.R. ; Lii,T. ; Feng,C. ; Bhat,M. ; Dao,T. ; Molloy,J. ; Blackwell,M. ; J. Cecil,
出版情報:
Microelectronic Device Technology : 1-2 October 1997, Austin, Texas
. pp.171-175, 1997. Bellingham, Wash., USA. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
3212
2.
国際会議録
国際会議録
2.
Integration of ultrathin resist processes into MPU IC manufacturing flows
Cobb,J.L. ; Conley,W. ; Guenther,T. ; Huang,F. ; Lee,J.J. ; Lii,T. ; Dakshina-Murthy,S. ; Parker,C. ; Usmani,S. ; Wu,W. ; Hector,S.D.
出版情報:
Advances in Resist Technology and Processing XVIII
. 4345 pp.261-272, 2001. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4345
しぼり込み条件:
著者名: Lii,T.
言語
英語
(2)
発行年
2000-2009
(1)
1990-1999
(1)
資料種別
国際会議録
(2)
著者名
Bhat,M.
(1)
Blackwell,M.
(1)
Cobb,J.L.
(1)
Conley,W.
(1)
Dakshina-Murthy,S.
(1)
さらに…
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