1.

国際会議録
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1. Stencil mask key parameter measurement and control
Ehrmann,A. ; Elsner,A. ; Liebe,R. ; Struck,T. ; Butschke,J. ; Letzkus,F. ; Irmscher,M. ; Springer,R. ; Haugeneder,E. ; Loschner,H.
出版情報: Emerging lithographic technologies IV : 28 February-1 March 2000, Santa Clara, USA.  pp.373-384,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3997
2.

国際会議録
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2. Quality assessment of advanced photomasks using the Q-CAP cluster tool
Peter,K. ; Schatz,T. ; Ordynskyy,V. ; Liebe,R. ; Verbeek,M. ; Galan,G. ; Baracchi,E. ; Miramond,C. ; Bruck,H.-J. ; Scheuring,G. ; Engel,T. ; Eran,Y. ; Sommer,K. ; Hartmann,H.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.117-124,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
3.

国際会議録
国際会議録
3. Defect printability study with programmed defects on halftone reticles
Dettmann,W. ; Haffner,H. ; Heumann,J.P. ; Liebe,R. ; Ludwig,R. ; Moses,R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.479-487,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
4.

国際会議録
国際会議録
4. Mask manufacturing rule check: how to save money in your mask shop
Keck,M.C. ; Ziegler,E. ; Liebe,R. ; Franke,T. ; Ballhorn,G. ; Kofferlein,M. ; Thiele,J.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.114-118,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
5.

国際会議録
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5. New approach to improve CD uniformity based on mask quality
Liebe,R. ; Jaehnert,C. ; Gottlib,G. ; Eran,Y. ; Hemar,S. ; Sade,A. ; Rosenbusch,A.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.647-653,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
6.

国際会議録
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6. Inspection of EAPSMs for 193-nm technology generation using a UV-based 365-nm reticle inspection tool
Har-zvi,M. ; Liebe,R. ; Rosenbusch,A. ; Gottlib,G.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.762-767,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562