1.

国際会議録
国際会議録
1. Systematic investigation of CD metrology tool response to sidewall profile variation on a COG test mask [6281-16]
Gans, F. ; Liebe, R. ; Heins, Th. ; Richter, J. ; Hasler-Grohne, W. ; Frase, G. C. ; Bodermann, B. ; Czerkas, S. ; Dirscherl, K. ; Bosse, H.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810D-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
国際会議録
2. Results of a round robin measurement on a new CD mask standard
Gans, F. ; Liebe, R. ; Richter, J. ; Schatz, Th. ; Hauffe, B. ; Hillmann, F. ; Dobereiner, S. ; Bruck, H.-J. ; Scheuring, G. ; Brendel, B. ; Bettin, L. ; Roth, K.-D. ; Steinberg, W. ; Schluter, G. ; Speckbacher, P. ; Sedlmeier, W. ; Scherubl, T. ; HaBler-Grohne, W. ; Frase, C. G. ; Czerkas, S. ; Dirscherl, K. ; Bodermann, B. ; Mirande, W. ; Bosse, H.
出版情報: EMLC 2005 : 21st European Mask and Lithography Conference : 31 January-3 February, 2005, Dresden, Germany.  pp.122-133,  2005.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5835
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. A Study on Local Heat Transfer Enhancement in a Rectangular Dimpled Channel with a Large Aspect Ratio.
Lauffer, D. ; Weigand, B. ; Liebe, R.
出版情報: A.S.M.E. paper.  2005.  New York, NY.  American Society of Mechanical Engineers
シリーズ名: ASME Technical Paper : GT
シリーズ巻号: 2005
4.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
4. Heat Transfer Enhancement by Impingement Cooling in a Combustor Liner Heat Shield.
Lauffer, D. ; Weigand, B. ; von Wolfersdorf, J. ; Dahlke, S. ; Liebe, R.
出版情報: A.S.M.E. paper.  2007.  New York, NY.  American Society of Mechanical Engineers
シリーズ名: ASME Technical Paper : GT
シリーズ巻号: 2007
5.

国際会議録
国際会議録
5. Measurement tool influence on CD results on photolithographic masks [6283-113]
Richter, J. ; Liebe, R. ; Laske, F. ; Rudolf, J. ; Heins, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628315-628316,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
6.

国際会議録
国際会議録
6. Aerial image-based mask inspection: a development effort to detect what might impact printing image quality on wafers
Liebe, R. ; Haffner, H. ; Hemar, S. ; Rosenbusch, A. ; Chen, J.X. ; Kalk, F.D.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  1  pp.177-184,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
7.

国際会議録
国際会議録
7. Line edge roughness on photo lithographic masks [6152-62]
Heins, T. ; Dersch, U. ; Liebe, R. ; Richter, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521O-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152