1.

国際会議録
国際会議録
1. Wavefront engineering from 500-to 100-nm CD
Levenson,M.D.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.2-13,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
2.

国際会議録
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2. Coping with the impact of lens aberrations in the context of wavefront engineering
Kroyan,A. ; Levenson,M.D. ; Tittel,F.K.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.832-838,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
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3. Wavefront engineering from 500-to 100-nm CD
Levenson,M.D.
出版情報: Emerging lithographic technologies : 10-11 March 1997, Santa Clara, California.  pp.2-13,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3048
4.

国際会議録
国際会議録
4. Wavefront engineering from 500-to 100-nm CD
Levenson,M.D.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XI.  pp.12-23,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3050
5.

国際会議録
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5. Phase phirst! An improved strong-PSM paradigm
Levenson,M.D. ; Petersen,J.S. ; Gerold,D.G. ; Mack,C.A.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.395-404,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
6.

国際会議録
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6. SCAA mask exposures and Phase Phirst designs for 100 nm and below
Levenson,M.D. ; Ebihara,T. ; Yamachika,M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.817-826,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
7.

国際会議録
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7. Multiple pitch transmission and phase analysis of six types of strong phase-shifting masks
Gerold,D.J. ; Petersen,J.S. ; Levenson,M.D.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.729-743,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
8.

国際会議録
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8. Wavefront engineering from 500-to 100-nm CD
Levenson,M.D.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.2-13,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051