1.

国際会議録
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1. Exposing the DUV SCAAM: 75-nm imaging on the cheap
Levenson, M.D. ; Ebihara, T.
出版情報: Design, process integration, and characterization for microelectronics : 6-7 March 2002, Santa Clara, USA.  pp.288-297,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4692
2.

国際会議録
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2. The vortex mask: making 80-nm contacts with a twist!
Levenson, M.D. ; Dai, G. ; Ebihara, T.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1293-1303,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
3.

国際会議録
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3. Vortex via process: analysis and mask fabrication for contact CDs <80 nm
Levenson, M.D. ; Tan, S.M. ; Dai, G. ; Morikawa, Y. ; Hayashi, N. ; Ebihara, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.344-370,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Automated SEM metrology of wafers printed using a SCAA mask
Desai, S. ; Edihara, T. ; Levenson, M.D. ; White, S.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVI.  Part Two  pp.884-891,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4689
5.

国際会議録
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5. Beyond k1=0.25 lithography: 70-nm L/S patterning using KrF scanners
Ebihara, T. ; Levenson, M.D. ; Liu, W. ; He, J. ; Yeh, W. ; Ahn, S. ; Oga, T. ; Shen, M. ; M'saad, H.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.985-994,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
6.

国際会議録
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6. Vortex via validation
Levenson, M.D. ; Ebihara, T. ; Morikawa, Y. ; Hayashi, N.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.93-102,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
7.

国際会議録
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7. Advances in vortex via fabrication
Levenson, M.D. ; Ebihara, T.J. ; Reilly, M. ; Barclay, G. ; Vorha, V. ; Stafford, C. ; Mastovich, M.E. ; Morikawa, Y. ; Hayashi, N.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1237-1246,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377