1.

国際会議録
国際会議録
1. Epoxidized novolac resist(EPR)for high-resolution negative and positive-tone electron beam lithography
Tegou,E. ; Gogolides,E. ; Argitis,P. ; Raptis,I. ; Patsis,G.P. ; Glezos,N. ; Tan,Z.C.H. ; Lee,K.Y. ; Le,P.T. ; Hsu,Y. ; Hatzakis,M.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1181-1188,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
2.

国際会議録
国際会議録
2. Negative-tone resist system using vinyl cyclic acetal crosslinker
Huang,W.-S. ; Lee,K.Y. ; Chen,R.K.-J. ; Schepis,D.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIII : 11-13 March 1996, San Clara, California.  pp.315-322,  1996.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2724
3.

国際会議録
国際会議録
3. Laser welding:providing alignment precision and accuracy to substrate-level packaging
Brown,J. ; Maier,N. ; Lee,K.Y. ; Ziegltrum,L. ; Leger,J.St
出版情報: Micromachining and microfabrication process technology V : 20-22 September, 1999, Santa Clara, California.  pp.158-164,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3874
4.

国際会議録
国際会議録
4. Accuracy of transmittance measurement of inspection machine for semitransparent defect and its detectability
Kim,J.B. ; Hur,I.B. ; Jeong,S.H. ; Son,Y.S. ; Lee,K.Y. ; Lee,S.W. ; Shin,C. ; Kim,H.S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.507-511,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
5.

国際会議録
国際会議録
5. Application of dry etching process on high-end Cr photomasks
Park,K.T. ; Lee,K.Y.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.246-251,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412
6.

国際会議録
国際会議録
6. New approach to the sampling of holographic stereograms
Kim,N. ; Kim,E.-S. ; Lee,K.Y. ; Jeon,S.H.
出版情報: Practical Holography XI and Holographic Materials III.  PartA  pp.89-95,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3011
7.

国際会議録
国際会議録
7. Fast ITTBC using pattern code on subband segmentation
Koh,S.S. ; Kim,H.C. ; Lee,K.Y. ; Kim,H.B. ; Jeong,H. ; Cho,G.S. ; Kim,C.H.
出版情報: Input/Output and Imaging Technolgies II.  pp.200-207,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4080