1.

国際会議録
国際会議録
1. Removal process for buffer layer on multilayer of EUVL mask
Hoshino,E. ; Ogawa,T. ; Takahashi,M. ; Hoko,H. ; Yamanashi,H. ; Hirano,N. ; Chiba,A. ; Lee,B.-T. ; Ito,M. ; Okazaki,S.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.13-17,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Mechanism of Void Formation in the Growth of 3C-SiC Thin Film in Si Substrate
Se,Y.H. ; Kim,K.C. ; Shim,H.W. ; Nahm,K.S. ; Suh,E.-K. ; Lee,H.J. ; Hwang,Y.C. ; Kim,D.-K. ; Lee,B.-T.
出版情報: Silicon carbide, III-nitrides and related materials, ICSCIII-N'97 : proceedings of the International Conference on Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, Stockholm, Sweden, September 1997.  Part1  pp.199-202,  1998.  Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 264-268