1.

国際会議録
国際会議録
1. EVALUATION OF CHELATE ADDED APM CLEANING SOLUTIONS
Chung, S.P. ; Chang, K.H. ; Lee, K.T. ; Kwon, Y.M. ; Hah, S.R. ; Moon, J.T. ; Lee, S.I.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.114-120,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
2.

国際会議録
国際会議録
2. 10 Detection of Surfactants in Rinse Water using a Quartz Crystal Microbalance Technique
Lee, K.T. ; Raghavan, S. ; Mathew, V.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Environmental Aspects of Electrochemical Technology: applications in electronics.  pp.126-139,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-21
3.

国際会議録
国際会議録
3. The Influence of Substrate Texture on the Oxidation Kinetics of Copper
Lee, K.T. ; Jeong, H.T. ; Szpunar, J.A. ; Kim, H.G.
出版情報: Textures of materials : ICOTOM 13 : proceedings of the 13th International Conference on Textures of Materials, Seoul, Korea, August 26-30, 2002.  pp.1019-1024,  2002.  Uetikon-Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 408-412
4.

国際会議録
国際会議録
4. Mechanistic Aspects of Chemical Mechanical Polishing of Tungsten Using Ferric Ion Based Alumina Slurries
Raghunath, C. ; Lee, K.T. ; Kneer, E.A. ; Mathew, V. ; Raghavan, S.
出版情報: Proceedings of the First International Symposium on Chemical Mechanical Planarization.  pp.1-15,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-22