1.

国際会議録
国際会議録
1. Plasma Etching Endpointing by Monitoring RF Power Systems with an Artificial Neural Network
Maynard, H. ; Rietman, E. ; Lee, J.T.C. ; Ibbotson, D.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Process control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.189-207,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-2
2.

国際会議録
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2. High Density Plasma Gate Etching of 0.12 um Devices with Sub-1.5 nm Gate Oxides
Klemens, F.P. ; Baumann, F.H. ; Kornblit, A. ; Layadi, N. ; Lee, H. ; Maynard, H.L. ; Mytych, J.M. ; Sorch, T.W. ; Tennant, D.M. ; Timp, G.L. ; Lee, J.T.C.
出版情報: Proceedings of the International Symposium on Thin Film Materials, Processes, Reliability, and Applications, Thin Film Processes.  pp.85-95,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-30
3.

国際会議録
国際会議録
3. Selected Topics in Plasma Processing Research
Lee, J.T.C. ; Colonell, J.J. ; Klemens, F.P. ; Baumann, F.H. ; Kornblitt, A. ; Lee, H. ; Maynard, H.L. ; Sorsch, T.W. ; Timp, G.L. ; Layadi, N. ; Malyshev, M.V. ; Donnelly, V.M. ; Ciampa, N.A.
出版情報: Proceedings of the twelfth International Symposium on Plasma Processing.  pp.1-12,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-4
4.

国際会議録
国際会議録
4. New Applications of Ellipsometry for Materials Characterization and VLSI Device Process Control
Blayo, N. ; Grevoz, A. ; Lee, J.T.C. ; Ibbotson, D.E.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.207-216,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-33