1.

国際会議録
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1. Properties of sonochemically synthesized, highly dispersed MoS2/AI2O3 catalysts for the hydrodedulfurization of dibenzothiophene and 4,6-dimethyldibenzothiophene
Lee, J. J. ; Kwak, C. ; Yoon, Y. J. ; Hyeon, T. ; Moon, S. H.
出版情報: 12th International Congress on Catalysis : proceedings of the 12th ICC, Granada, Spain, July 9-14, 2000.  pp.2777-,  2000.  Amsterdam.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 130
2.

国際会議録
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2. Processing technology, laser, optical and thermal properties of ceramic laser gain materials
Dubinskii, M. ; Merkle, L. D. ; Goff, J. R. ; Quarles, G. J. ; Castillo, V. K. ; Schepler, K. L. ; Zelmon, D. ; Guha, S. ; Gonzalez, L. P. ; Rickey, M. R. ; Lee, J. J. ; Hegde, S. M. ; Dumm, J. Q. ; Messing, G. L. ; Lee, S. -H.
出版情報: Laser source and system technology for defense and security : 28-29 March, 2005, Orlando, Florida, USA.  pp.1-9,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5792
3.

国際会議録
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3. EFFECT OF RESIDUAL STRESS ON Si-CONSUMPTION DURING W-DEPOSITION BY LPCVD
Lee, S. H. ; Lee, J. J. ; Kum, Dong-Wha
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.609-614,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
4.

国際会議録
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4. Direct Surface Analysis of Organic Contamination for Semiconductor Related Materials
Lee, J. J. ; Odom, R. W. ; Strossman, G. S. ; Lindley, P. M.
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.143-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386
5.

国際会議録
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5. CVD Cu Process Development and Integration for Sub-0.18 ｦﾌm Devices
Zhang, J. ; Denning, D. ; Braeckelmann, G. ; Hamilton, G. ; Lee, J. J. ; Venkatraman, R. ; Fiordalice, B. ; Weitzman, E.
出版情報: Advanced interconnects and contacts : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.243-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 564
6.

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6. MFMOS capacitor with Pb5Ge3O11 thin film for one transistor ferroelectric memory applications
Li, T. K. ; Hsu, S. T. ; Lee, J. J. ; Gao, H. F. ; Engelhard, M.
出版情報: Ferroelectric thin films VIII : symposium held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.443-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 596
7.

国際会議録
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7. (13.3) 8:50 - 9:10 AM - Fabrication of Thin Relaxed SiGe Films for Strained Si Applications
Tweet, D. J. ; Maa, J. S. ; Lee, J. J. ; Hsu, S. T. (Sharp Labs. - America)
出版情報: SiGe: materials, processing, and devices : proceedings of the First international symposium.  pp.865-876,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-07
8.

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8. Hydrodesulfurization of Dibenzothiophene and 4,6-Dimethyldibenzo-thiophene Using Fluorinated NiMoS/Al2O3 Catalysts
Kim, H. ; Lee, J. J. ; Koh, J. H. ; Moon, S. H.
出版情報: Science and technology in catalysis 2002 : proceedings of the Fourth Tokyo Conference on Advanced Catalytic Science and Technology, Tokyo, July 14-19, 2002.  pp.315-318,  2003.  Amsterdam.  Elsevier
シリーズ名: Studies in surface science and catalysis
シリーズ巻号: 145
9.

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9. Relaxation of SiGe Films for the Fabrication of Strained Si Devices
Maa, J. S. ; Tweet, D. J. ; Lee, J. J. ; Hsu, S. T. ; Fujii, K. ; Naka, T. ; Ueda, T. ; Baba, T. ; Awaya, N. ; Sakiyama, K.
出版情報: Intergration of heterogeneous thin-film materials and devices : symposium held April 23-24, 2003, San Francisco, California, U.S.A..  pp.3-8,  2003.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 768
10.

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10. Integration Challenges of Inorganic Low-K (K < 2.5) Materials With Cu for Sub-0.25)μm Multilevel Interconnects
Blumenthal, R. ; Braekelmann, G. ; Cave, N. G. ; Conner, J. ; Crabtree, P. ; Defilippi, J. ; Denning, D. ; Farkas, J. ; Filipiak, S. ; Fowler, B. W. ; Fox, R. ; Freeman, M. ; Garcia, S. ; Herrick, M. T. ; Hershey, R. ; Hobbs, C. C. ; Jawarani, D. ; Junker, K. ; Keyes, C. ; Kirksey, S. ; Lee, J. J. ; Lee, K. S. ; Lindell, M. ; Mora, R. ; Neil, T. ; Nguyen, T. ; Olivares, M. ; Pena, T. Newton. D. ; Selinidis, S. ; Sieloff, D. D. ; Smith, D. ; Sparks, T. ; Stankus, JJ. ; Tiwari, R. ; VanGompel, T. ; Watanabe, J. K. ; Weitzman, E. J. ; Wetzel, J. T. ; Yu, K. C. ; Zhang, J.
出版情報: Low-dielectric constant materials V : symposium held April 5-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.151-160,  1999.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 565