1.

国際会議録
国際会議録
1. EVALUATION OF OZONATED WATER SPRAY FOR RESIST CLEANING APPLICATIONS
De Gendt, S. ; Lux, M. ; Claes, M. ; Van Hoeymissen, J. ; Conrad, T. ; Worth, W. ; Lagrange, S. ; Bergman, E. ; Jassal, A.S. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.391-398,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
2.

国際会議録
国際会議録
2. OZONATED HF APPLICATIONS IN A SPRAY PROCESSING
Claes, M. ; Rohr, E. ; De Gendt, S. ; Lagrange, S. ; Bergman, E. ; Heyns, M.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.314-321,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26