1.

国際会議録

国際会議録
J. Damlencourt ; Y. Campidelli ; T. Nguyen ; B. Vincent ; C. Le Royer ; Y. Morand ; S. Cristoloveanu ; L. Clavelier
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 3 : new materials, processes and equipment.  pp.65-72,  2007.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 6(1)
2.

国際会議録

国際会議録
L. Clavelier ; C. Le Royer ; Y. Morand ; C. Deguet ; B. Vincent
出版情報: SiGe and Ge, materials, processing, and devices.  pp.789-805,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(7)
3.

国際会議録

国際会議録
J. Damlencourt ; Y. Campidelli ; M. Roure ; B. Vincent ; E. Martinez ; F. Fillot ; B. Arrazat ; T. Nguyen ; S. Cristoloveanu ; L. Clavelier ; Y. Morand
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices 13.  pp.315-320,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 6(4)
4.

国際会議録

国際会議録
O. J. Renault ; E. Martinez ; L. Fourdrinier ; L. Clavelier ; N. Barrett ; C. Le Royer ; C. Crotti
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 2: new materials, processes, and equipment.  pp.385-390,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(2)
5.

国際会議録

国際会議録
J. Hartmann ; H. Grampeix ; L. Clavelier
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.583-590,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)
6.

国際会議録

国際会議録
M. Kostrzewa ; T. Nguyen ; J. Mazellier ; C. Deguet ; L. Clavelier
出版情報: Semiconductor Wafer Bonding 10: Science, Technology, and Applications.  pp.187-194,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(8)
7.

国際会議録

国際会議録
P. Batude ; M. Vinet ; A. Pouydebasque ; L. Clavelier ; C. LeRoyer
出版情報: Semiconductor Wafer Bonding 10: Science, Technology, and Applications.  pp.47-54,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(8)