1.

国際会議録
国際会議録
1. Chromatic aberration-free TTL alignment system for 193-nm step-and-scan exposure system by using phase conjugate waves
Kwon,J.H. ; Sohn,Y.J. ; Hwang,H.C. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.971-977,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
国際会議録
2. Alignment system for ArF excimer-laser-based step-and-scan system
Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwon,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.958-970,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
国際会議録
3. The Conversion Efficiency of Photovoltaic Converters with Pulsed Lasers,
Woo,K.C. ; Kwon,J.H. ; Jalufka,N.W.
出版情報: Optics for science and new technology : 17th Congress of the International Commission for Optics, August 19-23, 1996, Hotel Riviera(Yusong), Taejon Korea.  Part1  pp.304-305,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2778
4.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
4. Experimental Investigations of Characteristics of Electro-Thermal-Chemical Plasma
Li,J.Q. ; Kwon,J.H. ; Zhou,H. ; Kudva,G. ; Thynell,S.T. ; Litzinger,T.A.
出版情報: AIAA paper.  pp.1-11,  2001.  Reston, VA.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA/ASME/SAE/ASEE Joint Propulsion Conference and Exhibit
シリーズ巻号: 2001