1.

国際会議録
国際会議録
1. Model-based OPC for 0.13-μm contacts using 248-nm Att PSM
Shin, J.-J. ; Wu, T.C. ; Chen, C.-K. ; Liu, R.-G. ; Ku, Y.C. ; Lin, B.J.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1296-1307,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
2.

国際会議録
国際会議録
2. Global CD uniformity improvement in mask manufacturing for advanced lithography
Chang, S.-M. ; Chin, C.C. ; Wang, W.-C. ; Lu, C.-L. ; Hsieh, R.-G. ; Tsay, C.-S. ; Yen, Y.-S. ; Chin, S.-C. ; Lee, H.-C. ; Liu, R.-G. ; Chen, K.-S. ; Hsieh, H.-C. ; Ku, Y.C. ; Lin, J.C.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1065-1071,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
3.

国際会議録
国際会議録
3. Phenomena and OPC solution of ripple patterns for 65-nm node
Lai, C.-M. ; Ho, J.-S. ; Lai, C.-W. ; Tsai, C.-K. ; Tsay, C.-S. ; Chen, J.-H. ; Liu, R.-G. ; Ku, Y.C. ; Lin, B.-J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1165-1171,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
4.

国際会議録
国際会議録
4. Two threshold resist models for optical proximity correction
Huang, W.-C. ; Lin, C.-H. ; Kuo, C.-C. ; Huang, C.C. ; Lin, J.F. ; Chen, J.-H. ; Liu, R.-G. ; Ku, Y.C. ; Lin, B.-J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1536-1543,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377