1.

国際会議録
国際会議録
1. THE CONTROL OF BORON AUTO-DOPING DURING DEVICE PROCESSING FOR P/P+ EPI WAFERS WITH NO BACK-SURFACE OXIDE SEAL
Binns, M.I. ; Kommu, S. ; Seacrist, M.R. ; Standley, R.W. ; Wise, R. ; Myers, D.J. ; Tisserand, D. ; Doyle, D.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.682-693,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. A Three-Dimensional Computational Fluid Dynamics Model of a Horizontal Rotating Disk CVD Reactor
Kommu, S. ; Wilson, G.M.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.222-229,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
3.

国際会議録
国際会議録
3. SILICON EPITAXY AND PARTICLE DYNAMICS: A THEORETICAL AND EXPERIMENTAL STUDY
Kommu, S.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.311-324,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2
4.

国際会議録
国際会議録
4. Computer Simulation Of Injected Pultrusion Processes
Kommu, S. ; Kardos, J. ; Khomami, B.
出版情報: AIChE ANNUAL MEETING - NOVEMBER 10-15, 1996 - CHICAGO, IL.  1996.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1996
5.

国際会議録
国際会議録
5. SILICON EPITAXY AND PARTICLE DYNAMICS: A THEORETICAL AND EXPERIMENTAL STUDY
Kommu, S.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.311-322,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2
6.

国際会議録
国際会議録
6. THE CONTROL OF BORON AUTO-DOPING DURING DEVICE PROCESSING FOR P/P+ EPI WAFERS WITH NO BACK-SURFACE OXIDE SEAL
Binns, M.J. ; Kommu, S. ; Seacrist, M.R. ; Standley, R.W. ; Wise, R. ; Myers, D.J. ; Tisserand, D. ; Doyle, D.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.682-693,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2