1.

国際会議録
国際会議録
1. Ta-Si-N AND Si3N4 ENCAPSULANTS FOR InP
Reid, J. S. ; Ruiz, R. P. ; Kolawa, E. ; Chen, J. S. ; Madok, J. ; Nicolet, M.-A
出版情報: Advanced metallization and processing for semiconductor devices and circuits--II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.555-560,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 260
2.

国際会議録
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2. INTERFACIAL REACTIONS OF Ag THIN FILMS ON (001) GaAs
Chen, J. S. ; Kolawa, E. ; Ruiz, R. P. ; Nicolet, M-A.
出版情報: Heteroepitaxy of dissimilar materials : symposium held April 29-May 2, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.355-362,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 221
3.

国際会議録
国際会議録
3. Saturation current model for the n-channel G4-FET
Dufrene, B. ; Blalock, B. ; Cristoloveanu, S. ; Mojarradi, M. ; Kolawa, E.
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices XI : proceedings of the international symposium.  pp.367-372,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-5
4.

国際会議録
国際会議録
4. THIN-FILM ENCAPSULANTS FOR THERMAL PROCESSING OF GaAs
Molarius, J. M. ; Kolawa, E. ; Morishita, K. ; Pan, E. T.-S ; Tandon, J. L. ; Nicolet, M-A.
出版情報: Advances in materials, processing, and devices in III-V compound semiconductors.  pp.525-530,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 144
5.

国際会議録
国際会議録
5. STABLE SOLID-PHASE OHMIC CONTACTS TO n-GaAs DIFFUSION BARRIERS
Kolawa, E. ; Nieh, C.W. ; Flick, W. ; Molarious, J. ; Nicolet, M-A. ; Tandon, J.L. ; Madok, J.H.
出版情報: Advanced surface processes for optoelectronics : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.289-294,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 126
6.

国際会議録
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6. *APPLICATIONS OF AMORPHOUS Ti-P-N DIFFUSION BARRIERS IN SILICON METALLIZATION
Kolawa, E. ; Halperin, L. ; Pokela, P. ; Vu, Quat T. ; Nieh, C. W.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.33-40,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
7.

国際会議録
国際会議録
7. CHEMICAL STABILITY OF VB2 AND ZrB2 WITH ALUMINUM
Halperin, L. E. ; Kolawa, E. ; Fu, Z. ; Nicolet, M.-A.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.47-54,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
8.

国際会議録
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8. AMORPHOUS W-Zr FILMS AS DIFFUSION BARRIERS BETWEEN Al AND Si
So, F.C.T. ; Zhao, X.-A. ; Kolawa, E. ; Tandon, J.L. ; Zhu, M.F. ; Nicolet, M.-A.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.139-146,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54
9.

国際会議録
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9. CHARACTERIZATION OF THE Al/RuO2 INTERFACE UPON THERMAL ANNEALING
Vu, Quat T. ; Kolawa, E. ; Nicolet, M. -A.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.531-536,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
10.

国際会議録
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10. Copper Metallization Layers on Bismuth-Telluride Substrates: Effectiveness of Cr, Pt, and Ta40Si14N46 Thin Films As Diffusion Barriers
Kacsich, T. ; Nicolet, M-A. ; Kolawa, E. ; Fleurial, J-P.
出版情報: Advanced interconnects and contact materials and processes for future integrated circuits : symposium held April 13-16, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.537-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 514