1.

国際会議録
国際会議録
1. Optical path and image performance monitoring of a full-field 157-nm scanner
Wells, G. ; Hermans, J. ; Watso, R. ; Kang, Y.-S. ; Morton, R. ; Kocsis, M.K. ; Okoroanyanwu, U. ; De Bisschop, P. ; Stepanenko, N. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.91-98,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
2.

国際会議録
国際会議録
2. Initial assessment of the lithographic impact of the use of hard pellicles: an overview
De Bisschop, P. ; Kocsis, M.K. ; Bruls, R. ; Grenville, A. ; Van Peski, C.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.116-123,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
3.

国際会議録
国際会議録
3. Experimental investigation of fabrication process-, transportation-, storage, and handling-induced contamination of 157-nm reticles and vacuum UV cleaning
Okoroanyanwu, U. ; Stepanenko, N. ; Vereecke, G. ; Eliat, A. ; Kocsis, M.K. ; Kang, Y.S. ; Jonckheere, R.M. ; Conard, T. ; Ronse, K.G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.487-503,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
4.

国際会議録
国際会議録
4. Initial assessment of the lithographic impact of the use of a hard pellicle on wafer distortion
Kocsis, M.K. ; De Bisschop, P. ; Bruls, R. ; Grenville, A. ; Van Peski, C.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1679-1688,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377