1.

国際会議録
国際会議録
1. ELECTRON TRANSPORT IN a-Si:H AT LOW TEMPERATURES
Nebel, C.E. ; Kocka, J.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.563-568,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
2.

国際会議録
国際会議録
2. Microcrystalline Silicon―Relation of Transport Properties and Microstructure
Fejfar, A. ; Kocka, J. ; Stuchlik, J. ; Stuchlikova, H. ; Vorlicek, V.
出版情報: Amorphous and heterogeneous silicon thin films : fundamentals to devices - 1999 : symposium held April 5-9, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.483-494,  1999.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 557
3.

国際会議録
国際会議録
3. Features of Charge Carrier Transport in μc-Si:H/a-Si:H Superlattices
Juska, G. ; Nekrasas, N. ; Stuchlik, I. ; Arlauskas, K. ; Viliunas, M. ; Kocka, J.
出版情報: Ultrafast phenomena in semiconductors 2001 : proceedings of the 11th International Symposium on Ultrafast Phenomena in Semiconductors (11-UFPS), held in Vilnius, Lithuania 27-29 August 2001.  pp.301-304,  2002.  Zurich-Uetikon, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 384-385