1.

国際会議録
国際会議録
1. CHARACTERISTICS AND RECOVERY OF Si SURFACES PLASMA ETCHING IN CHF3/C2F6
Park, H.-H. ; Kwon, K.H. ; Koak, B.-H. ; Lee, S.-M. ; Kwon, O-J. ; Kim, B.-W. ; Lee, J.-W. ; Yoo, J.-B. ; Sung, Y.-K.
出版情報: Chemical surface preparation, passivation, and cleaning for semiconductor growth and processing : symposium held April 27-29, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.219-224,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 259
2.

国際会議録
国際会議録
2. EFFECTS OF POST ETCH TREATMENTS ON CONTAMINATED SILICON SURFACE DUE TO CHF3/C2F6 REACTIVE ION ETCHING
Park, H.-H. ; Kwon, K.-H. ; Lee, S.-H. ; Nahm, S. ; Lee, J.-W. ; Koak, B.-H. ; Suh, K.-S. ; Kwon, O.-J. ; Lee, J.-L. ; Yeom, G.-Y.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.243-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315