1.

国際会議録
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1. Review of photoresist-based lens evaluation methods
Kirk,J.P.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.2-8,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
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2. Alignment performance versus mark quality
Kirk,J.P. ; Yoon,J.H. ; Wiltshire,T.J.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.496-501,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
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3. Measurment of astigmatism in microlithography lenses
Kirk,J.P.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.848-854,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
4.

国際会議録
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4. Application of blazed gratings for determination of equivalent primary azimuthal aberrations
Kirk,J.P. ; Progler,C.J.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.70-76,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
5.

国際会議録
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5. Pupil illumination: in-situ measurement of partial coherence
Kirk,J.P. ; Progler,C.J.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.281-288,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
6.

国際会議録
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6. Characterization of a next-generation step-and-scan system
Wiltshire,T.J. ; Kirk,J.P. ; Wheeler,D.C. ; Obszarny,C. ; Marsh,J.T. ; Odiwo,D.M.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.448-459,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
7.

国際会議録
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7. Viability of conventional high-NA KrF imaging for sub-0.25-ｦﾌm lithography
Farrell,T.R. ; Nunes,R. ; Campbell,R. ; Hoh,P. ; Samuels,D.J. ; Kirk,J.P. ; Conley,W.E. ; Iba,J. ; Shibata,T.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part1  pp.46-53,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
8.

国際会議録
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8. Aberration analysis using reconstructed aerial images of isolated contacts on attenuated phase-shift masks
Zach,F.X. ; Lin,C.Y. ; Kirk,J.P.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.1362-1368,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
9.

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9. Aberration measurement using in-situ two-beam interferometry
Kirk,J.P. ; Kunkel,G. ; Wong,A.K.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.8-14,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
10.

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10. Detection of focus and spherical aberration by use of a phase grating
Kirk,J.P. ; Schank,S. ; Lin,C.Y.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.1355-1361,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346