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検索結果:
3
件
1.
国際会議録
国際会議録
1.
Hydrogen Content and Permeability of Thin CVD Silicon Nitride and Oxynitride Layers
Kirchhoff, M. ; Cote, D. ; Hauf, M. ; Nguyen, S. ; Hoesler, W.
出版情報:
Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11
. pp.1230-1237, 1997. Pennington, NJ. Electrochemical Society
シリーズ名:
Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号:
97-25
2.
国際会議録
国際会議録
2.
Advanced LPCVD BPSG Deposition for Sub-0.25μm Microelectronic Fabrication
Ilg, M. ; Kirchhoff, M. ; Nguyen, S.
出版情報:
Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition
. pp.863-868, 1996. Pennington, NJ. Electrochemical Society
シリーズ名:
Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号:
96-5
3.
国際会議録
国際会議録
3.
Evaluation of Different CVD BPSG Layers for 64M Dram Processing
Kirchhoff, M. ; Ilg, M. ; Cote, D.
出版情報:
Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition
. pp.856-862, 1996. Pennington, NJ. Electrochemical Society
シリーズ名:
Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号:
96-5
しぼり込み条件:
著者名: Kirchhoff, M.
言語
英語
(3)
発行年
1990-1999
(3)
資料種別
国際会議録
(3)
著者名
Cote, D.
(2)
Ilg, M.
(2)
Nguyen, S.
(2)
Hauf, M.
(1)
Hoesler, W.
(1)
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