1.

国際会議録
国際会議録
1. Linewidth measurement of wafers using SEM and its uncertainty evaluation
Ko,Y.-U. ; Eom,T.-B. ; Kim,K.-H. ; Kim,S.-W.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X.  pp.159-168,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2725
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterization and optimization of CD control for 0.25-ｦﾌm CMOS applications
Ronse,K. ; Beeck,M.Opde ; Yen,A. ; Kim,K.-H. ; hove,L.Van den
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.555-563,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
3.

国際会議録
国際会議録
3. Progressive fast volume rendering for medical images
Kim,K.-H. ; Park,H.W.
出版情報: Medical Imaging 2001: Visualization, Display, and Image-Guided Procedures.  pp.481-491,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4319
4.

国際会議録
国際会議録
4. Visually guided spine biopsy simulator with force feedback
Ra,J.B. ; Kwon,S.M. ; Kim,J.K. ; Yi,J. ; Kim,K.-H. ; Park,H.W. ; Kyung,K. ; Kwon,D.-S. ; Kang,H.-S. ; Jiang,L. ; Cleary,K.R. ; Zeng,J. ; Mun,S.K.
出版情報: Medical Imaging 2001: Visualization, Display, and Image-Guided Procedures.  pp.36-45,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4319