1.

国際会議録
国際会議録
1. Shape recovery from a blurred image using wavelet analysis
Kim,B.-S. ; Yun,J. ; Choi,T.S.
出版情報: Digital image recovery and synthesis IV : 20-21 July 1999, Denver, Colorado.  pp.248-258,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3815
2.

国際会議録
国際会議録
2. Feasibility of very low k1(=0.31) KrF lithography
Kim,I.-S. ; Kim,B.-S. ; Lee,J.-H. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: Challenges in process integration and device technology : 18-19 September 2000, Santa Clara, USA.  pp.17-24,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4181
3.

国際会議録
国際会議録
3. One step forward to maturity of AF (assistant feature)-OPC in 100-nm level DRAM application
Kang,H.-J. ; Kim,B.-S. ; Park,J.-S. ; Kim,I.-S. ; Yeo,G.-S. ; Lee,J.-H. ; Cho,H.-K. ; Moon,J.-T.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1096-1103,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
4.

国際会議録
国際会議録
4. Mask considerations for manufacturing assist features
Choi,J.-H. ; Cho,W.-I. ; Kim,B.-S. ; Yang,S.-H. ; Moon,S.-Y. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.131-140,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
5.

国際会議録
国際会議録
5. Lithography process design for 4-Gb DRAM of 0.31 k1 with KrF
Park,J. ; Yeo,G. ; Kim,I. ; Kim,B.-S. ; Lee,J. ; Cho,H. ; Moon,J.T.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.205-213,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346