1.

国際会議録
国際会議録
1. Polymer structure modifications for immersion leaching and watermark control [6153-77]
Lee, J W ; Oh, S K ; Kim, J W ; Lee, S H ; Jeong, Y H ; Kim, S S ; Park, M H ; Kim, D ; Kim, J ; Lee, G ; Moon, S C
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXIII.  pp.615311-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6153
2.

国際会議録
国際会議録
2. Resolution enhanced top anti-reflective coating materials for ArF immersion lithography [6153-74]
Jung, J C ; Lee, S K ; Ban, K D ; Bok C ; Kim H S ; Moon, S C ; Kim, J
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXIII.  pp.61531Z-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6153
3.

国際会議録
国際会議録
3. Full PACS installation in Seoul National University Hospital, Korea
Lim, H. ; Kim, D. ; Ahn, J. ; Lee, D. ; Lee, J. ; Park, H. ; Kim, J ; Han, J.
出版情報: Medical Imaging 2002: PACS and Integrated Medical Information Systems: Design and Evaluation.  pp.75-82,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4685