1.

国際会議録
国際会議録
1. Physical and Chemical Characterization of Re-Used Oxide CMP Slurry
Kim, Hyung-Joon ; Fom, Dae-Hong ; Kim, Myoung-Shik ; Park, Jin-Goo
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.143-153,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. Effect of Organic Acids in Slurry on Copper CMP
Eom, Dae-Hong ; Kim, Hyung-Joon ; Song, Hyung-Soo ; Park, Jin-Goo
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.201-211,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-26