1.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
1. Daesan Combined Cycle Power Plant Successful Operating Experience on Low Sulphur Waxy Residual Fuel Oil.
Lee, K.-W. ; Kim, H.-D. ; Wi, S., II.
出版情報: A.S.M.E. paper.  2001.  New York, NY.  American Society of Mechanical Engineers
シリーズ名: ASME Technical Paper : GT
シリーズ巻号: 2001
2.

国際会議録
国際会議録
2. Extension of Cr-less PSM to sub 90-nm-node DRAM and logic device
Lee, J.-H. ; Kim, H.-D. ; Chung, D.-H. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.727-735,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
3.

国際会議録
国際会議録
3. Attainable road to the lower-k1 extension using high-transmittance attenuated phase-shifting mask in the KrF lithography world
Kim, I.-S. ; Jung, S.-G. ; Kim, H.-D. ; Yeo, G.-S. ; Shin, I.-K. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.466-475,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
国際会議録
4. Realization of sub-80-nm small-space patterning in ArF photolithography
Kim, S.-H. ; Kim, H.-D. ; Lee, S.-H. ; Park, C.-M. ; Ryoo, M.-H. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.1082-1090,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
5.

国際会議録
国際会議録
5. What an antishrinkage coating method can surmount among stumbling block of ArF resists
Kim, H.-D. ; Lee, S.-H. ; Choi, S.-J. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.827-837,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039