1.

国際会議録
国際会議録
1. A novel integrated MEMS process using fluorocarbon films deposited with a deep reactive ion etching (DRIE) tool
Ayon, A. A. ; Chen, D-Z. ; Khanna, R. ; Braff, R. ; Sawin, H. H. ; Schmidt, M. A.
出版情報: Materials science of microelectromechanical systems (MEMS) devices II : symposium held November 29-December 1, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.141-,  2000.  Warrendale, Pa..  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 605
2.

国際会議録
国際会議録
2. Themlal Stability of Tungsten-Based Schottky Contacts to N-Type ZnO
Ip, K. ; Khanna, R. ; Norton, D.P. ; Pearton, S.J. ; Ren, F ; Kravchenko, I. ; Kao, C.J. ; Chi, G.C.
出版情報: State-of-the-art program on compound semiconductors (SOTAPOCS XLII) and processes at the compound-semiconductor/solution interface : proceedings of the international symposia.  pp.431-442,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-04
3.

国際会議録
国際会議録
3. Reduced complexity genetic algorithm for motion estimation
Khanna, R. ; van der Schaar, M.
出版情報: Visual Communications and Image Processing 2004.  pp.474-485,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5308