Search records | 東京工業大学附属図書館文献データベース

表示順選択

検索結果: 3 件

国際会議録

1. Improvement of ZEN 4100

Mitao,N. ; Abe,N. ; Kawata,A. ; Tanaka,K. ; Yamamoto,Y. ; Minagawa,T. ; Uraguchi,M. ; Ogawa,M.

出版情報:	Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan. pp.53-60, 1997. Bellingham, Washington. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:	Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:	3096

国際会議録

2. Spray developer for ZEP 7000

Kawata,A. ; Ozawa,K. ; Abe,N. ; Yamashiro,K. ; Aizawa,T.

出版情報:	Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII. pp.252-260, 2000. Bellingham, Wash.. SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:	Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:	4066

国際会議録

3. New concept for negative-tone electron-beam resist

Wada,Y. ; Kashiwagi,M. ; Tanaka,H. ; Kawata,A. ; Tanaka,K. ; Yamamoto,Y.

出版情報:	Photomask and X-Ray Mask Technology III. pp.70-77, 1996. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:	Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:	2793