1.

国際会議録
国際会議録
1. Fully Depleted SIMOX SOI Process Technology for Low Power Digital and RF Device
Itoh, M. ; Kawai, Y. ; Ito, S. ; Yokomizo, K. ; Katakura, Y. ; Fukuda, Y. ; Ichikawa, F.
出版情報: Silicon-on-Insulator Technology and Devices X : proceedings of the tenth International Symposium.  pp.331-336,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-3
2.

国際会議録
国際会議録
2. Fully depleted SOI process and device technology for digital and RF application
Ichikawa, F. ; Nagatomo, Y. ; Katakura, Y. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices XI : proceedings of the international symposium.  pp.123-132,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-5