1.

国際会議録
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1. PERFORMANCE OF 'DDC': DILUTED DYNAMIC CLEAN BEFORE 4.5 nm GATE OXIDE
Boelen, P. ; Matthews, R. ; Kashkoush, I. ; Novak, R.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.15-22,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
2.

国際会議録
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2. PERFORMANCE OF AN ADVANCED FRONT OF THE LINE CLEAN COMPARED TO THE PROCESS OF RECORD CLEAN IN A MANUFACTURING ENVIRONMENT
Novak, R. ; Kashkoush, I. ; Nolan, J. ; Hunter, J. ; Straight, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.123-128,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
3.

国際会議録
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3. EVALUATION OF ADVANCED PRE-GATE CLEANINGS
Cowache, C. ; Boelen, P. ; Kashkoush, I. ; Besson, P. ; Tardif, F.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.59-68,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
4.

国際会議録
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4. MONITORING OF Fe CONTAMINATION ON Si SURFACES USING NON-CONTACT SURFACE CHARGE PROFILER
Roman, P. ; Kashkoush, I. ; Novak, R.E. ; Kamieniecki, E. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.344-349,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
5.

国際会議録
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5. ETCH UNIFORMITY OF THERMAL OXIDE DURING HF-WET PROCESSES
Kashkoush, I. ; Novak, R.E. ; Rajaram, B. ; Carrillo, F.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.429-435,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
6.

国際会議録
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6. THE ROLE OF MEGASONIC ENERGY IN PARTICULATE REMOVAL FROM SILICON SUBSTRATES IN DILUTE SC1 CHEMISTRY
Kashkoush, I. ; Brause, E. ; Grant, R. ; Novak, R.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.168-175,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
7.

国際会議録
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7. ADVANCED FRONT END OF THE LINE CLEAN FOR POST-CMP PROCESSES
Kashkoush, I. ; Nolan, T. ; Nemeth, D. ; Novak, R.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.299-304,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
8.

国際会議録
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8. OPTIMIZATION OF DILUTE SC1
Boelen, P. ; Lardin, T. ; Sandrier, B. ; Matthews, R. ; Kashkoush, I. ; Novak, R. ; Tardif, F.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.161-167,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
9.

国際会議録
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9. Photoresist Stripping Using Ozone/Deionized Water Chemistry
Kashkoush, I. ; Matthews, R. ; Novak, R. ; Brause, E. ; Carrillo, F. ; Rajaram, B.
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.173-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477
10.

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10. In Situ PRE-EPI CLEAN PROCESS FOR NEXT GENERATION DEVICES
Kashkoush, I. ; Chen, G. ; Ciari, R. ; Novak, R.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.345-351,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26