1.

国際会議録
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1. PULSED LASER DEPOSITION AND ATOMIC SCALE CHARACTERIZATION OF PEROVSKITE OXIDE FILMS
Koinuma, H. ; Yoshimoto, M. ; Kawasaki, M. ; Ohkubo, H. ; Kanda, N. ; Gong, J.P.
出版情報: Laser ablation in materials processing : fundamentals and applications : symposium held December 1-4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.263-268,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 285
2.

国際会議録
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2. Characterization of Ta2O5 thin films with small current leakage for high density DRAMS
Kanda, N. ; Furukawa, R. ; Ishibashi, M. ; Kunitomo, M. ; Homma, T. ; Takahashi, M. ; Uemura, T. ; Kanai, M. ; Kubo, M. ; Ogata, K. ; Yoshida, T. ; Yamamoto, H. ; Ohji, Y.
出版情報: Structure and electronic properties of ultrathin dielectric films on silicon and related structures : symposium held November 29-December 1, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.129-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 592
3.

国際会議録
国際会議録
3. 157-nm lithography with high numerical aperture lens for 70-nm technology node
Suganaga, T. ; Kanda, N. ; Kim, J.-H. ; Yamabe, O. ; Watanabe, K. ; Furukawa, T. ; Miyoshi, S. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.584-593,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
国際会議録
4. Feasibility study of SCAAM-type Alt-PSM for 157-nm lithography
Morikawa, Y. ; Kokubo, H. ; Noguchi, K. ; Sasaki, S. ; Mohri, H. ; Hoga, M. ; Kanda, N. ; Irie, S. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1137-1145,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
5.

国際会議録
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5. Wavefront aberration measurement in 157-nm high numerical aperture lens
Kim, J.-H. ; Suganaga, T. ; Watanabe, K. ; Kanda, N. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1408-1419,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
国際会議録
6. A new model of haze generation and storage-life-time estimation for mask [6349-53]
Shimada, S. ; Kanda, N. ; Takahashi, N. ; Nakajima, H. ; Tanaka, H. ; Ishii, H. ; Shoji, Y. ; Otsuki, M. ; Naito, A. ; Hayashi, N.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63491H-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
7.

国際会議録
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7. Sub-70-nm pattern fabrication using an alternating phase-shifting mask in 157-nm lithography
Irie, S. ; Kanda, N. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1654-1664,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
8.

国際会議録
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8. In-situ measurements of VUV optical materials for F2 laser
Sumitani, A. ; Itakura, Y. ; Yoshida, F. ; Kawasa, Y. ; Zhang, J. ; Kanda, N. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1686-1695,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
9.

国際会議録
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9. Feasibility study of TaSiOx-type Att-PSM for 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Yamabe, O. ; Kanda, N. ; Kim, J. ; Uchida, N. ; Irie, S. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.444-451,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754