1.

国際会議録
国際会議録
1. Gate edge roughness in electron beam direct write and its influence to device characteristics
K.-H. Choi ; R. Dittrich ; M. Goldbach ; C. Hohle ; K. Keil
出版情報: Emerging lithographic technologies XII.  1  pp.69210J-1-69210J-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6921
2.

国際会議録
国際会議録
2. Printing of sub-resolution shots in electron beam direct write with variable shaped beam machines
F. Thrum ; J. Kretz ; C. Hohle ; K.-H. Choi ; K. Keil
出版情報: EMLC 2008 : 24th European Mask and Lithography Conference : 21-24 January 2008, Dresden, Germany.  pp.67920B-1-67920B-6,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6792
3.

国際会議録
国際会議録
3. Human face detection using motion and color information
Y. G. Kim ; M. W. Bang ; S.-Y. Park ; K.-H. Choi ; J. H. Hwang
出版情報: Image processing : machine vision applications : 29-31 January 2008, San Jose, California, USA.  pp.681312-1-681312-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6813